場鏡基本定義：
工作在物鏡焦平面附近，可以有效減小探測器尺寸的透鏡，被稱為場鏡。
準(zhǔn)確來說，場鏡應(yīng)該工作在物鏡的像平面。一方面： 場鏡的物平面和主平面重合，由主平面的特性可知其放大率為1，因此對(duì)系統(tǒng)的放大率無貢獻(xiàn)；另一方面，場鏡應(yīng)該將物鏡的光闌面投影在目鏡的入瞳上，對(duì)于單透鏡而言，光闌面也就是出瞳，這樣可以保證物鏡的出射光能夠最大限度的通過目鏡。如果用在掃描系統(tǒng)中，則探測器替代了目鏡的入瞳。
場鏡基本分類：
按照波段分類：1064nm場鏡（也叫YAG場鏡）、10.6微米場鏡（也叫CO2場鏡）、532nm場鏡（也叫綠光場鏡）、355nm場鏡（也叫紫外場鏡）。
按照設(shè)計(jì)理念分類：f-theta透鏡和遠(yuǎn)心透鏡，遠(yuǎn)心透鏡成本很高，在工業(yè)系統(tǒng)中主要適應(yīng)的是f-theta透鏡。
參考資料：
激光掃描：
場鏡的主要技術(shù)參數(shù)有：工作波長、入射光瞳、掃描范圍 和聚焦光斑直徑。
工作波長：主要看激光器的波長，場鏡的鏡片是在給定的激光波長鍍膜。如果不在給定的波長范圍內(nèi)使用場鏡，場鏡可能會(huì)被激光燒壞或所需要的激光透過率很低。
入射光瞳：也叫最大入射光斑。如使用的是單片鏡，反射鏡置于入射光瞳的地方，最大可用光束的直徑等于入射光瞳的直徑。入射光瞳越大，通過聚焦鏡聚焦出來的聚焦光斑直徑越小，所以在要求打標(biāo)特別精細(xì)的場合，我們會(huì)考慮使用入射光瞳大一些的場鏡，如精細(xì)打標(biāo)和振鏡式焊接。
掃描范圍：場鏡能掃描到的范圍越大，當(dāng)然越受使用者的歡迎。但是如果增加掃描范圍，聚焦光點(diǎn)變大，失真度也要加大。另外加大掃描范圍，場鏡焦距和工作距也要加大。工作距離的加長，必然導(dǎo)致激光能量的損耗。還有聚焦后的光斑直徑跟焦距成正比，這意味著加大掃描范圍，聚焦光斑直徑跟著加大，光斑聚得不夠細(xì)，激光的功率密度下降非?？欤üβ拭芏雀獍咧睆降?次方成反比），不利于加工。所以使用者要根據(jù)不同的加工面積選用最適合的場鏡，或者備用幾個(gè)不同掃描范圍的場鏡。 焦距：跟工作距離有一定關(guān)系，但是不等于工作距離。
聚焦光斑直徑：對(duì)于入射激光束直徑D、場鏡焦距F和光束質(zhì)量因子Q的掃描系統(tǒng)，聚焦光斑直徑d = 13.5QF/D (mm)。所以用擴(kuò)束鏡可以得到更小的聚焦光斑
場鏡的主要作用是：
（1）提高邊緣光束入射到探測器的能力；
（2）在相同的主光學(xué)系統(tǒng)中，附加場鏡將減少探測器的面積。如果使用同樣的探測器的面積，可擴(kuò)大視場，增加入射的通量；
（3）可讓出像面位置放置調(diào)制盤，以解決無處放置調(diào)制器的問題；
（4）使探測器光敏面上的非均勻光照得以均勻化；
（5）當(dāng)使用平像場鏡時(shí)，可獲得平場像面；
（6）在像差校正方面，可以補(bǔ)償系統(tǒng)的場曲和畸變。
