光學(xué)鍍膜廠家和真空鍍膜生產(chǎn)廠家的區(qū)別
2019-08-24 12:42:01
性質(zhì)的區(qū)別
1、光學(xué)鍍膜是指在光學(xué)材質(zhì)表面鍍金屬或電介質(zhì)膜的過程。光學(xué)材料表面涂覆的目的是減少或增加反射、光束分離、分色、濾波、極化等。常用的鍍膜方法有種物理鍍膜和化學(xué)鍍膜。
2、真空鍍膜是一種在高真空條件下加熱金屬或非金屬材料，使其在鍍件表面蒸發(fā)冷凝，形成薄膜的方法。對異體，吸血鬼，氯化鉻涂層，等等。
鍍膜原理的區(qū)別
1、真空鍍膜是一種基于真空技術(shù)的新技術(shù)，它采用物理或化學(xué)方法，吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控制，為科學(xué)研究和實際生產(chǎn)提供新的工藝。簡單地說，是一種在真空中蒸發(fā)或濺射金屬、合金或化合物以使其凝固并沉積在被涂層基體上的方法。
2、光干涉在薄膜光學(xué)里是十分重要的。光學(xué)薄膜技術(shù)常用的方法是真空濺射法在玻璃基板上沉積薄膜。它通常用于控制入射光束在玻璃基板上的反射率和透過率，以滿足不同的需要。
近年來激光技術(shù)的發(fā)展，對鍍膜反射率和透射率提出了更高的要求，促進了多層高反射膜和寬帶抗反射膜的發(fā)展。在很多應(yīng)用中，采用高反射膜制作了偏振反射膜、分色膜、冷光膜和干涉濾光片。
方法和材料的區(qū)別
1、真空鍍膜的方法材料：
主要結(jié)果如下：真空蒸發(fā)：需要涂覆的基材被清洗并放置在涂層室中。抽運后，薄膜材料被加熱到高溫，蒸汽達到13.3Pa左右，蒸汽分子飛到基片表面形成薄膜。
陰極濺射鍍：將待鍍基板放置在陰極對面，將惰性氣體（如氬）通入真空室，保持壓力在1.33～13.3pa，然后將陰極接至2000V直流電源，以激發(fā)輝光放電。正氬離子撞擊陰極，使陰極發(fā)射原子，濺射的原子穿過陰極。過惰性氣體沉積在基底上形成薄膜。
化學(xué)氣相沉積：薄膜的沉積是通過選擇金屬或有機化合物的熱分解得到的。
離子鍍：離子鍍本質(zhì)上是真空蒸發(fā)鍍和陰極濺射鍍的有機結(jié)合，具有兩種工藝特點。
2、光學(xué)鍍膜方法材料
氟化鎂：無色四方粉末，純度高。用它制備的光學(xué)涂層可以提高透射率而不產(chǎn)生斷裂點。
二氧化硅：無色透明晶體，硬度高，熔點高。二氧化硅純度高，可用于制備高質(zhì)量的Si02涂層。蒸發(fā)狀態(tài)良好，無塌陷點。根據(jù)使用要求，可分為紫外線、紅外線和可見光。
氧化鋯：白色重結(jié)晶狀態(tài)，折射率高，耐高溫，化學(xué)性能穩(wěn)定，純度高。它可用于制備高質(zhì)量的氧化鋯涂層而不產(chǎn)生斷裂點。
深圳瑞誠光電技術(shù)有限公司采用最先進的磁控濺射鍍膜技術(shù)，專注國內(nèi)外高端濾光片的研發(fā)和制作，產(chǎn)口主要銷往歐美等發(fā)達國家，在同行業(yè)中處于一流水準(zhǔn)。
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